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四氟化硫 SF4 (Sulfur tetrafluoride)
———CAS: 7783-60-0 純度: 99%用途：廣泛應(yīng)用的最有效的選擇性有機(jī)氟化劑，它能將羰基和羥基選擇性地氟化(取代含羰基化合物中的氧)；在精細(xì)化工廣泛應(yīng)用于高檔液晶材料和高端醫(yī)藥、農(nóng)藥工... -
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氟氮混合氣(5%～30%）F2/N2
———CAS: 7782-41-4 純度: 氟氣99%用途：廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥中間體合成、電子工業(yè)芯片制造，氟化塑料的生產(chǎn)及油箱氟化處理。 -
四氟化碳 CF4 (Carbon tetrafluoride)
———CAS: 75-73-0 純度: >99.999%用途：電子工業(yè)中等離子蝕刻、電子器件表面清洗、印刷電路的去污劑；制冷劑；電力行業(yè)的電氣絕緣和滅弧材料；太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)等。 -
六氟化硫 SF6 (Sulfur hexafluoride)
———CAS: 2551-62-4 純度: >99.999%用途：用作高壓開關(guān)、大容量變壓器、高壓電纜和氣體的絕緣材料。采礦工業(yè)用作反吸附劑，用于礦井煤塵中置換氧。高純SF6還因其化學(xué)惰性、無(wú)毒、不燃及無(wú)腐蝕... -
六氟乙烷 C2F6（hexafluoroethane）
———CAS: 76-16-4 純度: >99.999%用途：六氟乙烷可用于一種具多功能的蝕刻技術(shù)，常見(jiàn)于半導(dǎo)體之生產(chǎn)。它可用于金屬硅化物及金屬氧化物并相對(duì)其金屬基質(zhì)的選擇性蝕刻。叧外，它亦用于蝕刻硅上... -
笑氣 N2O（nitrous oxide；Laughing gas）
———CAS: 10024-97-2 純度: >99.9995%用途：醫(yī)用麻醉劑，火箭推進(jìn)劑，賽車加速助燃劑，殺蟲滅菌劑。在集成電路器件、IC 卡、LED、微電子、光伏等行業(yè)中也有廣泛應(yīng)用。 -
氯氣 CL2（chlorine）
———CAS: 7782-50-5 純度: >99.999%用途：用于漂白，制造氯化合物、鹽酸、聚氯乙烯，可用作半導(dǎo)體生產(chǎn)中的氣體蝕刻劑等。 -
三氟甲烷 CHF3（Trifluoromethane；Freon23）
———CAS: 75-46-7 純度: >99.999%用途：用作低溫(-100℃)制冷劑，電子工業(yè)等離子體化學(xué)蝕刻劑及氟有化合物的原料、致冷劑、滅火劑替代品。 -
